中文名:陈星弼
国籍:中国
民族:汉族
出生地:中国上海
出生日期:1931年1月
职业:半导体器件及微电子学专家
毕业院校:北山中学;同济大学
主要成就:1999年当选中国科学院院士
代表作品:《晶体管原理与设计》
小学毕业时,他成绩名列前茅。抗战时生活极为艰苦,他也曾想停止读正规学校,早点谋出路。但父亲因宦海沉浮之经历,坚持让他继续读书,学到科学技术而为国家做实事。再加上他一直进的是国立中学,包括生活费在内一概公费,因此没有中断学习。
家庭对他最大的影响是,学问必须靠自己努力取得。当抗战胜利第二年他从内地转读上海敬业中学时,许多功课都很吃力。但有一天教物理的居小石老师突然向全班说:“你们都应该向陈星弼学习。他的习题明显都是自己一人做的。不管做得错或对,都有他特别的做法,而且愈做愈好。”他还鼓励陈星弼一辈子要做傻瓜(老实人)。老师的这些话使陈星弼受用一辈子。
1947年,他考取了同济大学电机系,并获得奖学金。他的学习从来不拘一格。人在电机系,却去旁听物理系及机械系的课,而工程力学及画法几何又学得比电机系的主要课程还好。他学过小提琴,而且能背出许多古典交响乐的曲谱。他也看过唯心主义的哲学书籍,以致在新中国成立
2019年12月4日17时10分,“中国功率器件领路人”陈星弼在四川成都逝世,享年89岁。
科研综述
五十年代末,对漂移晶体管的存贮时间问题在国际上最早作了系统的理论分析。提出新的电荷法基本方程、不均匀介质中镜象电荷方程等。八十年代以来,从事半导体电力电子器件的理论与结构创新方面的研究。从理论上解决了提高p-n结耐压的平面及非平面工艺的终端技术问题,作出了一些迄今唯一的理论分析解。在解决MOS功率管中降低导通电阻与提高耐压之间的矛盾问题上作出了系列重要贡献。发明了耐压层的三种新结构,提高了功率器件的综合性能优值,其中横向耐压层新结构在制备工艺上与常规CMOS和BiCMOS工艺兼容,有利于发展耐高压的功率集成电路。
科研成果
陈星弼在新型功率(电力电子)器件及其集成电路这一极其重要领域中,做出了一系列重要的贡献与成就。他率先在中国提出立项并作为第一主研完成了VDMOST、IGBT、Offset-GateMOST、LDMOST、SPIC及RESURF、SIPOS等器件及有关技术。他对垂直型功
他是中国电子学会会士,美国IEEE高级会员,中国国家自然科学基金评审员,美国纽约科学院(并入选其出版的世界名人录Marquis\\\swhointheworld”中),半导体学报编委,中国电子学会半导体与集成技术委员会委员,中国电子学会四川省分会理事兼半导体与集成技术分会主任委员,曾连续担任国际SSICT程序委员及分会主席及一届中德友好电子周分会主席。
陈星弼是中国电子学会会员,美国IEEE高级终身会员,
陈星弼教授是中国电子学会会士、美国IEEE高级会员。多次出访国外进行科技学术交流。他热爱祖国、忠诚党的教育事与科学事业。学识渊搏、治学严谨、工作刻苦。有坚实的基础理论,能及时抓住新方向,很快深入,既能发现问题又能解决问题。
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