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刘兴钊简介

发布时间:2022-02-14
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标签: 武汉大学
刘兴钊,男,教授,博士生导师,1966年3月出生,1989年毕业于武汉大学物理系,电子薄膜材料专家,主要研究方向包括:BST铁电薄膜、半导体SiC 外延薄膜、半导体低维结构等。

基本资料

1

中文名:刘兴钊

国籍:中国

出生日期:1966年3月

职业:教师

毕业院校:武汉大学

主要成就:2003年度,国家技术发明二等奖(排名第二)

教育背景

2

1995.02-2000.03,电子科技大学信息材料工程学院材料物理与化学专业,博士研究生,获工学博士学位。

1989.07-1992.07,中科院固体物理研究所凝聚态物理专业,硕士研究生,获理学硕士学位。

1985.09-1989.07,武汉大学物理系,本科,获理学学士学位。

工作经历

3

2004.08-今,电子科技大学微电子与固体电子学院,教授。

2000.08-2004.07,电子科技大学微电子与固体电子学院,副教授;

1997.08-1998.07,德国Karsruhe研究中心(FZK),客座研究人员;

1994.07-2000.07,电子科技大学信息材料工程学院,讲师;

1992.08-1994.07,电子科技大学信息材料工程学院,助教;

学术兼职

4

2013.03-今,中国电子学会电子材料学分会第七届委员会委员。

研究领域

5

重点研究方向为:新兴半导体材料及器件,包括:

1、二维化合物半导体材料及晶体管研究——针对未来集成电路发展对新材料的需求,开展晶圆级

二维化合物半导体材料制备技术研究,并探索其在晶体管及集成电路中应用的可行性。

2、宽禁带半导体材料及紫外探测器研究——针对大型配电设施对电路短路的早期预警需要,开展

新兴宽禁带半导体材料制备、紫外探测器研制及其与信号处理电路的集成等研究。

3、窄禁带半导体材料及红外探测器研究——针对火灾报警需要,开展新兴窄禁带半导体材料制备、

异质结设计、红外探测器研制及其与信号处理电路的集成等研究。

注:

(1)、对于有志于这些方面研究的同学,最好能来我办公室当面交流,这样彼此都能有个较深入的认识

和了解,办公室位于:电子科技大学沙河校区微固楼226(最好先邮件预约)。

(2)、欢迎同样从事这些方面研究的同行及朋友多多联系。

荣誉及奖励

6

2003年度,国家技术发明二等奖(排名第二);

2002年度,国防科学技术一等奖(排名第二);

2005年度,教育部技术发明一等奖(排名第三);

代表性论文

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发表及合作发表刊物论文90余篇,近期的代表性论文如下:

(1).Li-junHe,ChuanLi,Xing-zhaoLiu*,Theelectricalandmorphologicalpropertiesofmagnesiummoxide/aluminabilayeredthinfilmspreparedbyelectronbeamevaporationatobliqueincidence,Appl.Surf.Sci.292(2014)665–669

(2).XingzhaoLiu*,ChaoChen,JunZhu,WanliZhang,andYanrongLi,Themodulationeffectsofchargeddielectricthinfilmsontwo-dimensionalelectrongasinAlGaN/GaNheterostructure,J.Appl.Phys.114

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