中文名:刘兴钊
国籍:中国
出生日期:1966年3月
职业:教师
毕业院校:武汉大学
主要成就:2003年度,国家技术发明二等奖(排名第二)
1995.02-2000.03,电子科技大学信息材料工程学院材料物理与化学专业,博士研究生,获工学博士学位。
1989.07-1992.07,中科院固体物理研究所凝聚态物理专业,硕士研究生,获理学硕士学位。
1985.09-1989.07,武汉大学物理系,本科,获理学学士学位。
2004.08-今,电子科技大学微电子与固体电子学院,教授。
2000.08-2004.07,电子科技大学微电子与固体电子学院,副教授;
1997.08-1998.07,德国Karsruhe研究中心(FZK),客座研究人员;
1994.07-2000.07,电子科技大学信息材料工程学院,讲师;
1992.08-1994.07,电子科技大学信息材料工程学院,助教;
2013.03-今,中国电子学会电子材料学分会第七届委员会委员。
重点研究方向为:新兴半导体材料及器件,包括:
1、二维化合物半导体材料及晶体管研究——针对未来集成电路发展对新材料的需求,开展晶圆级
二维化合物半导体材料制备技术研究,并探索其在晶体管及集成电路中应用的可行性。
2、宽禁带半导体材料及紫外探测器研究——针对大型配电设施对电路短路的早期预警需要,开展
新兴宽禁带半导体材料制备、紫外探测器研制及其与信号处理电路的集成等研究。
3、窄禁带半导体材料及红外探测器研究——针对火灾报警需要,开展新兴窄禁带半导体材料制备、
异质结设计、红外探测器研制及其与信号处理电路的集成等研究。
注:
(1)、对于有志于这些方面研究的同学,最好能来我办公室当面交流,这样彼此都能有个较深入的认识
和了解,办公室位于:电子科技大学沙河校区微固楼226(最好先邮件预约)。
(2)、欢迎同样从事这些方面研究的同行及朋友多多联系。
2003年度,国家技术发明二等奖(排名第二);
2002年度,国防科学技术一等奖(排名第二);
2005年度,教育部技术发明一等奖(排名第三);
发表及合作发表刊物论文90余篇,近期的代表性论文如下:
(1).Li-junHe,ChuanLi,Xing-zhaoLiu*,Theelectricalandmorphologicalpropertiesofmagnesiummoxide/aluminabilayeredthinfilmspreparedbyelectronbeamevaporationatobliqueincidence,Appl.Surf.Sci.292(2014)665–669
(2).XingzhaoLiu*,ChaoChen,JunZhu,WanliZhang,andYanrongLi,Themodulationeffectsofchargeddielectricthinfilmsontwo-dimensionalelectrongasinAlGaN/GaNheterostructure,J.Appl.Phys.114
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